안녕하십니까, 식각공정 장비 담당하는 회사원입니다. 

장비에서 올라오는 신호로 Plasma에 대해 해석을 하는 경우가 있는지 알고싶습니다.

양산라인에서 쓸만한 Monitoring Method에 대해서도 알고싶습니다.

 

제 주 업무는 장비에서 올라오는 신호들을 분석하는 것인데요,

(저희 부서에서는 일본계 회사 제품을 사용하고있습니다.)

 

업무를 하다보면 제품 온도 변화 혹은 내부 상태의 변화에 따라 불량이 발생하는 경우가 자주 있습니다.

아쉬운 점은 이걸 장비 신호로 플라즈마의 공정상 영향을 미치는 정보들이 해석이 안되는 경우가 많습니다.

(특정 구간에서 불량이 검출되었으나 Trend 상으로 전혀 문제가 없어 보이는)

 

센서 심화를 더 시켜야 하는것인지 고민될때가 많습니다.(H/W적인 변경점을 주는것은 상당히 어렵습니다만)

연구실에서 사용하는 방법론들에 대해 알려주시면 많은 도움이 될 것 같습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102928
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61435
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73481
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105844
453 플라즈마 에칭과 표면처리의 차이점 질문드립니다. [Cleaning, sputter etching, RIE] [1] 2400
452 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath] [1] 2400
» [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자] [2] 2401
450 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [플라즈마 생성 분포와 sheath 전기장] [1] 2405
449 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [이차 전자의 방출 특성] [1] 2412
448 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마] [1] 2418
447 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문있습니다. [이온과 전자의 속도 차이와 Gate valve의 위치] [1] 2435
446 chamber impedance [장비 임피던스 데이터] [1] 2444
445 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2471
444 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2479
443 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [소자 식각 데미지] [1] 2530
442 플라즈마 관련 기초지식 [DC glow discharge] [1] 2555
441 analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리] [1] 2570
440 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [Self bias의 이해] [1] 2589
439 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [MFC와 residence time] [1] 2603
438 Remote Plasma가 가능한 이온 [Remote plasma와 diffusion] [1] 2613
437 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [Plasma information variable model] [1] 2621
436 Wafer particle 성분 분석 [플라즈마 세정] [1] 2623
435 plasma etching을 관련 문의드립니다. [반도체 공동 연구소] [1] 2636
434 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다. [Experiment와 KFE] [1] 2657

Boards


XE Login