안녕하세요 OLED 증착 전 Plasma 전처리 장비를 다루고 있는 엔지니어 입니다.

GAS 주입후 RF 제너레이터에서 파워를 인가할때 최초 반사파또한 공급파워의 80%이상반사되는 현상이 발생중입니다.

Load Tune 값은 크게 변하지 않는 상태이며 최초 공급시 1sec 정도반사파가 크게 나타나다가 빠르게 안정화 되고 있습니다.

이러한 문제의 원인이 어디에 있는지 공부를해서 찾는중인데 쉽지가 않네요 도움주실만한 것이 있을까 해서 여쭙습니다.

좋은 하루 되세요.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [182] 75015
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18859
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56339
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66836
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88287
339 Plasma etcher particle 원인 [1] 2425
338 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2352
337 질문있습니다. [1] 2332
336 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2326
335 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2324
334 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2316
333 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 2313
332 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 2310
331 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2309
330 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2307
329 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 2264
328 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 2249
327 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2243
326 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2239
325 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2235
324 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 2215
323 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2197
» 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2192
321 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2189
320 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2124

Boards


XE Login