Etch PR wafer seasoning
2018.03.19 10:54
안녕하세요. 반도체 장비업계에 근무하는 권보경입니다.
ICP 타입 O2 플라즈마에서 E/R drop의 이슈가 있었으나
PR wafer로 seasoning 후 회복되면서 일전과 비슷한 수준으로 saturation 되었습니다.
이 원리는 무엇이고 bare wafer seasoning은 효과가 있는지 알고싶습니다.
답변 부탁드립니다. 감사합니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] | 76848 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20255 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57192 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68745 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92605 |
| 417 | HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] | 2906 |
| 416 | VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] | 2884 |
| 415 | HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? | 2879 |
| 414 | 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] | 2842 |
| 413 | Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] | 2829 |
| 412 |
임피던스 매칭회로
[1]  | 2819 |
| 411 | [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] | 2783 |
| 410 | PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] | 2780 |
| 409 | 플라즈마 압력에 대하여 [1] | 2730 |
| » | PR wafer seasoning [1] | 2704 |
| 407 | 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] | 2691 |
| 406 | 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] | 2653 |
| 405 | RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] | 2650 |
| 404 | 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] | 2591 |
| 403 |
안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출)
[1] | 2585 |
| 402 | 질문있습니다. [1] | 2577 |
| 401 | Si Wafer Broken [2] | 2529 |
| 400 | 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] | 2505 |
| 399 | 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] | 2485 |
| 398 | [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] | 2473 |