안녕하세요 OLED 증착 전 Plasma 전처리 장비를 다루고 있는 엔지니어 입니다.

GAS 주입후 RF 제너레이터에서 파워를 인가할때 최초 반사파또한 공급파워의 80%이상반사되는 현상이 발생중입니다.

Load Tune 값은 크게 변하지 않는 상태이며 최초 공급시 1sec 정도반사파가 크게 나타나다가 빠르게 안정화 되고 있습니다.

이러한 문제의 원인이 어디에 있는지 공부를해서 찾는중인데 쉽지가 않네요 도움주실만한 것이 있을까 해서 여쭙습니다.

좋은 하루 되세요.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [158] 72997
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17588
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55512
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65687
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86016
325 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2284
324 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2277
323 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2265
322 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 2265
321 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2249
320 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2208
319 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2204
318 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2171
317 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2165
316 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2131
» 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2127
314 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 2125
313 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2093
312 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2093
311 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 2087
310 Wafer particle 성분 분석 [1] 2049
309 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2042
308 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2039
307 Si Wafer Broken [2] 2027
306 플라즈마볼 제작시 [1] file 2009

Boards


XE Login