Matcher Load position 관련 질문 드립니다.

2021.02.03 17:50

아저씨 조회 수:2435

 

 

이제 막 Plasma라는 것에 첫발을 딛은 직장 입니다. 

 

주파수는 13.56Mhz 사용 중입니다. 

 

공정 Power가 500W -> 1000W로 올렸더니 Load position이 내려 갔습니다. 

 

RF power가 상향되면 Load position이 내려가는 이유를 잘 모르겠습니다. (기계공학전공입니다.)

 

Load position이 내려가는 이유를 알려주실수 있을까요? 

 

감사합니다. 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76712
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20168
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68690
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92263
408 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2889
407 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2870
406 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2869
405 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2815
404 임피던스 매칭회로 [1] file 2804
403 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2770
402 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2763
401 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2737
400 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2727
399 PR wafer seasoning [1] 2701
398 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2685
397 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2638
396 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2628
395 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2581
394 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2579
393 질문있습니다. [1] 2569
392 Si Wafer Broken [2] 2508
391 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2492
390 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2470
389 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2450
쓰기
태그

Boards

XE Login