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433 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode] [2] 2692
432 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술] [2] 2693
431 플라즈마볼 제작시 [전기장 형성 및 플라즈마 방전] [1] file 2703
430 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [PECVD와 PACVD] [1] 2705
429 etching에 관한 질문입니다. [충돌 현상 및 이온화 과정] [1] 2706
428 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [Sputter와 sheath, flux] [1] 2718
427 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다. [플라즈마 특성변화와 SH impedance 변화] [1] 2733
426 Etch 공정(PE mode) Vpp 변동 관련. [Self bias 형성 과정과 전자의 에너지] [1] 2744
425 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load] [1] 2775
424 안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수] [2] 2778
423 doping type에 따른 ER 차이 [MD 시뮬레이션 연구] [1] 2785
422 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선] [1] 2805
421 LF Power에의한 Ion Bombardment [플라즈마 장비 물리] [2] 2810
420 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [Lorentz force와 magnetic confinement] [1] 2812
419 Dry etch 할 때 센터와 사이드 etch rate [Plasma diffusion과 distribution] [1] 2812
418 산소 양이온의 금속 전극 충돌 현상 [플라즈마 표면 반응] [1] 2816
417 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [플라즈마 dielectric property] [4] 2817
416 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [Ionization과 chucking] [1] 2829
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