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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65724
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307 질문있습니다. [1] 2004
306 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1992
305 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 1988
304 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 1950
303 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 1922
302 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 1869
301 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 1867
300 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 1866
299 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 1853
298 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 1852
297 가입인사드립니다. [1] 1817
296 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1800
295 chamber impedance [1] 1798
294 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 1798
293 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 1785
292 etching에 관한 질문입니다. [1] 1773
291 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1750
290 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 1738
289 CVD 공정에서의 self bias [1] 1737
288 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 1730
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