CCP CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활

2016.12.15 13:35

4차원 조회 수:7650

안녕하세요?

제가 알기로는 CCP는 두 전극사이에서 플라즈마가 일어나는 것으로 알고 있는데, 만약 두 전극 사이에 유전체가 속해진다면, 이 유전체가 어떠한 역할을 하는지 알고 싶습니다. 

http://plasma.ee.pusan.ac.kr/xe/sou

위의 사이트에서 보니깐 CCP에 유전체가 원래 있는 것처럼 보이는데, 웹에서 다른 내용을 보면 유전체 이야기는 없는, 단지 두 개의 평행한 전극만 이야기하는 내용도 있어서 궁금해서 글을 올립니다.

감사합니다. 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76739
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20207
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68703
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92288
389 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2438
388 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2433
387 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2397
386 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2382
385 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2360
384 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2343
383 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2334
382 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2327
381 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2326
380 Wafer particle 성분 분석 [1] 2321
379 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2320
378 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2319
377 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2316
376 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2315
375 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2314
374 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2314
373 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2313
372 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2306
371 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2281
370 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2270
쓰기
태그

Boards

XE Login