Plasma in general plasma etching을 관련 문의드립니다.

2019.03.26 14:10

정제준 조회 수:2433


안녕하세요. 서울대학교 재료공학부 오규환 교수님 연구실 박사과정 정제준입니다.

SiC 샘플에 plasma etching을 하려고 하는데 CF4 or O2 플라즈마를 이용해서 실험을 해보려고 합니다.

1. 플라즈마 응용연구실에서 장비가 있다면 사용이 가능한지요?

2. SiC etching에 다른 플라즈마 소스를 추천해주신다면 어떤게 있을까요?

3. 장비가 없으시면 다른곳을 추천해주시면 감사하겠습니다.


감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76779
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20229
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57178
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68721
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92407
391 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2440
» plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2433
389 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2410
388 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2390
387 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2361
386 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2349
385 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2341
384 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2335
383 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2331
382 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2331
381 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2331
380 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2328
379 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2327
378 Wafer particle 성분 분석 [1] 2323
377 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2323
376 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2318
375 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2316
374 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2310
373 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2282
372 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2276
쓰기
태그

Boards

XE Login