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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[269]
| 76736 |
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20206 |
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57168 |
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68702 |
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
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389 |
플라즈마 압력에 대하여
[1] | 2727 |
388 |
[Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련]
[3] | 2744 |
387 |
PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문
[1] | 2765 |
386 |
고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이
[1] | 2781 |
385 |
임피던스 매칭회로
[1] | 2804 |
384 |
Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다.
[2] | 2820 |
383 |
VI sensor를 활용한 진단 방법
[2] | 2873 |
382 |
HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요?
| 2873 |
381 |
HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의
[1] | 2892 |
380 |
RF matcher와 particle 관계
[2] | 2919 |
379 |
Plasma etcher particle 원인
[1] | 2967 |
378 |
Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다.
[1] | 2974 |
377 |
Plasma 에칭 후 정전기 처리
[3] | 3052 |
376 |
CVD 공정에서의 self bias
[1] | 3102 |
375 |
M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다.
[1] | 3162 |
374 |
아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서
| 3165 |
373 |
matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다.
[3] | 3184 |
372 |
Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다.
[2] | 3196 |
371 |
electron energy distribution에 대해서 질문드립니다.
[2] | 3204 |
370 |
PECVD Precursor 별 Arcing 원인
[1] | 3278 |
플라즈마는 이온화된 가스상태이다'라고 정의하는 분도 계십니다.