안녕하세요 RGA에 관하여 궁금한 점이 있습니다.


지금 저희가 사용하는 RGA는 인피콘 Transpector MPH 이고 SUS진공챔버에 사용하고 있습니다.


RGA 운용은 -3~4Pa 이하대에서 진행하고 있고 SUS챔버 Baking 시 잔류가스분석에 사용하고 있습니다.


한번 사용 할 때마다 70시간 정도씩 외벽90도(내벽130도)로 사용하고 있는데 이온소스가 오염되는 현상이 일어나고 있습니다.


혹시 RGA 이온소스 오염 원인에 대해서 알 수 있을까요? 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76733
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20204
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68701
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92280
389 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2438
388 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2433
387 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2397
386 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2382
385 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2360
384 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2343
383 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2333
382 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2327
381 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2325
380 Wafer particle 성분 분석 [1] 2321
379 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2320
378 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2318
377 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2316
376 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2315
375 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2314
374 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2314
373 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2313
372 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2306
371 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2281
370 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2270

Boards


XE Login