안녕하세요. 직장에서 Etcher를 다루고 있습니다.

 

저희 장비 중 Microwave Plasma를 사용하고, 여기에서 Impedance를 Matching하는 Matcher가 있습니다.

 

이 Matcher는 아래 도파관이 있고, 그 위에 3개의 Stub가 있는데, 정확하게 Matching을 진행하는 원리가 궁금합니다.

 

다른 ICP하고는 달리 Matcher가 회로로 되어 있는 것이 아니니 머리속으로 물리적인 현상을 떠오르는데 어려움이 있네요.

 

원리가 표현된 관련 문헌이나 자료가 있으면 더욱 감사드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102992
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24692
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61454
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73492
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105866
433 질문있습니다. [전자 에너지 분포함수 및 Maxwell 분포] [1] 2975
432 플라즈마 압력에 대하여 [Glow discharge와 light] [1] 2965
431 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [ESC 영역 온도 조절] [1] 2962
430 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [충돌 반응 및 전력 전달 모델] [1] 2960
429 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [Standing wave effect] [1] 2938
428 PR wafer seasoning [Particle balance, seasoning] [1] 2927
427 Load position관련 질문 드립니다. [Impedance matching] [1] 2926
426 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [대기압 플라즈마와 라디컬 생성] [1] 2923
425 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [Ionization collision 및 Effective ionization energy] [1] 2909
424 DRY Etcher Alarm : He Flow 관점 문의 드립니다. [O ring 결합부 근처 leak detect] [1] 2908
423 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스] [1] file 2881
422 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [최적 정합 조건 및 정합 시간] [2] 2881
421 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAT <-> STAGE HEATER 간 GAP과 DEPO 막질의 THK와의 연관성…. [Plasma property와 process control] [1] 2836
420 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [Ionization과 chucking] [1] 2820
419 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma] [1] 2819
418 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [플라즈마 dielectric property] [4] 2813
417 산소 양이온의 금속 전극 충돌 현상 [플라즈마 표면 반응] [1] 2813
416 매칭시 Shunt와 Series 값 [RF 전원 전력 전달 및 Load/Tune 계산] [1] 2812
415 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [Lorentz force와 magnetic confinement] [1] 2808
414 Dry etch 할 때 센터와 사이드 etch rate [Plasma diffusion과 distribution] [1] 2806

Boards


XE Login