안녕하세요 Etch 공정 담당하는 회사원입니다~

장비 Idle 상태에서 Dummy 이용하는데 과학적으로 왜 쓰는지 정확하게 이유를 알고싶습니다..

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405 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2475
404 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2442
403 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2426
402 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2421
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399 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2390
398 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2386
397 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2385
396 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2376
395 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2368
394 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2366
393 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2365
392 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2359
391 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2348
390 Wafer particle 성분 분석 [1] 2347
389 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2347
388 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2329
387 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2329

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