Others Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?

2017.10.25 07:56

송미건 조회 수:2239

안녕하세요 Etch 공정 담당하는 회사원입니다~

장비 Idle 상태에서 Dummy 이용하는데 과학적으로 왜 쓰는지 정확하게 이유를 알고싶습니다..

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76830
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20251
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57192
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68743
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92582
376 CVD 공정에서의 self bias [1] 3127
375 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3166
374 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3167
373 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3201
372 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3220
371 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3222
370 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3321
369 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3326
368 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3329
367 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3338
366 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3415
365 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3428
364 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3437
363 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3444
362 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3468
361 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3541
360 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3546
359 ESC Cooling gas 관련 [1] 3549
358 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3555
357 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3558
쓰기
태그

Boards

XE Login