안녕하세요. 저는 화학생물공학부에서 석사과정중인 학생입니다.



다름이 아니라 저희 실험실에서 TEM 그리드 표면개질을 하는데 수소 플라즈마 처리를 하고 싶은데 저희가 갖고 있는 장비로 될지 여쭤보기 위해서 이렇게 글 올립니다.



현재 갖고 있는 플라즈마 장비는 PELCO의 easiGlow 라는 장비인데요, 저희는 그냥 따로 가스관을 연결하진 않고 지금까지는 그냥 공기를 써서 O2 플라즈마로만 썼었습니다.


그런데 저희가 갖고 있는 장비로 수소통에 regulator를 달아서 연결하면 수소 플라즈마가 혹시 가능할지 궁금해서 여쭤봅니다.


스펙은 다음과 같습니다.

Specifications of the PELCO easiGlow™ Glow Discharge system

Plasma Current0-30 mA
HV Power supply30W Continuous Rating
Glow Discharge Head PolarityUser Selectable positive or negative
Process PlatformØ75mm with recess for 25 x 75mm slide
Glow Discharge Platform Height Control1-25 mm
Preprocess Hold Timer0-14411 sec.
Process Timer0-900 sec.
Chamber SizeØ120 x 100mm H with sealed Delrin top plate (inside Ø106 x 90mm)
Process/Vent gas inlets2 each Ø6 mm barbed, individually user selectable for process, purge or vent
High Voltage Vacuum InterlocksDual hardware and software interlocked
Vacuum ControlPirani Gauge, ranging from atmosphere to 0.01 mbar
Working Vacuum Range1.1 - 0.20 mbar for optimal glow
System Control / Display3" Touch Panel with LED backlight and 5 function keys
Operation ModesAuto Programmed (4 user programmed protocols) Manual/Diagnostics
Data Logging CapabilitiesStep #, Vacuum (mbar), Current (mA), Voltage (V), and polarity, once per second
Instrument Size305 L x 292 D x 230mm H (12" x 11-1/2" x 9 ")
Weight6.26 kg (13.8 lbs.)
GD4 Pump (optional)337 L x 138 D x 244mm H (13.3" x 5.4" x 9.6 ")
Weight11 kg (24 lbs.)
Laboratory Footprint with optional pump381 W x 292 D x 330mm H (15" x 11-1/2" x 13 ")
Power Requirements120V 60Hz, 15A or 230V 50Hz, 10A Service
Instrument Power Rating100-240VAC 60/50Hz 60W Plus Pump, IEC Inlet
Optional Pump Power Rating120/230V 60/50Hz 370 W (1/2 hp)
Vacuum Pump Minimum requirements2.5 m3/hr, 41 l/m, 1.65 CFM
0.03 mbar Ultimate Vacuum
Vacuum Pump Power Outlet on Instrument8A max IEC Outlet
Vacuum InletKF 16 flange
Data Logging CapabilitiesStep #, Vacuum (mbar), Current (mA), Voltage (V), and polarity, once per second
Communication PortUSB Outlet

 


질문이 조금 게시판과 맞지 않은점 죄송합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76822
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20250
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57191
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68739
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92578
375 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2279
374 etching에 관한 질문입니다. [1] 2267
373 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2254
372 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2251
371 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2247
370 플라즈마볼 제작시 [1] file 2246
369 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2239
368 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2175
367 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2142
366 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2136
365 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2073
364 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2064
363 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2054
362 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 2042
361 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2019
360 chamber impedance [1] 2012
359 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 2003
358 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 2001
357 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1999
356 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1979

Boards


XE Login