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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[269]
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20213 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57169 |
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
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369 |
Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1] | 2264 |
368 |
etching에 관한 질문입니다.
[1] | 2261 |
367 |
부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리
[1] | 2239 |
366 |
플라즈마볼 제작시
[1] | 2238 |
365 |
ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다.
[1] | 2234 |
364 |
N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다.
[1] | 2232 |
363 |
Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?
[1] | 2231 |
362 |
양극 코로나 방전에 대한 질문입니다.
[1] | 2173 |
361 |
플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다.
[1] | 2130 |
360 |
플라즈마 관련 기초지식
[1] | 2129 |
359 |
doping type에 따른 ER 차이
[1] | 2051 |
358 |
LF Power에의한 Ion Bombardment
[2] | 2019 |
357 |
Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법
[1] | 2016 |
356 |
ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요??
[1] | 2015 |
355 |
chamber impedance
[1] | 2009 |
354 |
RPG Cleaning에 관한 질문입니다.
[2] | 2006 |
353 |
CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도
[1] | 1989 |
352 |
플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다.
[1] | 1986 |
351 |
식각 시 나타나는 micro-trench 문제
[1] | 1983 |
350 |
ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다.
[2] | 1973 |