Others 석영이 사용되는 이유?

2010.04.16 19:26

최영익 조회 수:20024 추천:151

안녕하세요. 플라즈마를 공부하는 최영익이라고 합니다.

plasma device들 중에 석영을 주로 쓰는 경우가 있는데 특별한 이유가있는지요?

플라즈마 발생장치 중에 석영관 사이에서 방전을 한다거나

안테나가 석영관 뒤에 있는 경우가 있는데

석영이 선택되는 특별한 이유가 있는지요?

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76738
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92286
369 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2263
368 etching에 관한 질문입니다. [1] 2261
367 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2239
366 플라즈마볼 제작시 [1] file 2238
365 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2234
364 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2228
363 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2222
362 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2173
361 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2130
360 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2128
359 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2051
358 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 2019
357 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2016
356 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2014
355 chamber impedance [1] 2009
354 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2006
353 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1989
352 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1984
351 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1983
350 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1973
쓰기
태그

Boards

XE Login