|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[143]
| 5865 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 17328 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 53148 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 64546 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 85158 |
|
278 |
플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!?
[1] | 1597 |
|
277 |
DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다.
[1] | 1595 |
|
276 |
플라즈마 관련 기초지식
[1] | 1579 |
|
275 |
RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다.
[1] | 1564 |
|
274 |
Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1] | 1544 |
|
273 |
ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다.
[2] | 1544 |
|
272 |
터보펌프 에러관련
[1] | 1542 |
|
271 |
질문있습니다.
[1] | 1531 |
|
270 |
CVD 공정에서의 self bias
[1] | 1530 |
|
269 |
RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다.
[1] | 1518 |
|
268 |
식각 시 나타나는 micro-trench 문제
[1] | 1503 |
|
267 |
다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련
[1] | 1502 |
|
266 |
고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이
[1] | 1494 |
|
265 |
N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다.
[1] | 1494 |
|
264 |
Remote Plasma 가 가능한 이온
[1] | 1467 |
|
263 |
ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화
[1] | 1466 |
|
262 |
ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage
[1] | 1465 |
|
261 |
RPG Cleaning에 관한 질문입니다.
[2] | 1442 |
|
260 |
안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다.
[1] | 1432 |
|
259 |
RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY
[1] | 1407 |
