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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 76024
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 110013
415 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load] [1] 2897
414 Dry etch 할 때 센터와 사이드 etch rate [Plasma diffusion과 distribution] [1] 2884
413 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선] [1] 2883
412 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [플라즈마 dielectric property] [4] 2879
411 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [PECVD와 PACVD] [1] 2861
410 analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리] [1] 2852
409 doping type에 따른 ER 차이 [MD 시뮬레이션 연구] [1] 2851
408 산소 양이온의 금속 전극 충돌 현상 [플라즈마 표면 반응] [1] 2851
407 Etch 공정(PE mode) Vpp 변동 관련. [Self bias 형성 과정과 전자의 에너지] [1] 2824
406 안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수] [2] 2821
405 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다. [플라즈마 특성변화와 SH impedance 변화] [1] 2818
404 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [Sputter와 sheath, flux] [1] 2812
403 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술] [2] 2802
402 플라즈마볼 제작시 [전기장 형성 및 플라즈마 방전] [1] file 2796
401 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다. [Experiment와 KFE] [1] 2796
400 etching에 관한 질문입니다. [충돌 현상 및 이온화 과정] [1] 2771
399 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode] [2] 2745
398 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [Plasma information variable model] [1] 2743
397 Remote Plasma가 가능한 이온 [Remote plasma와 diffusion] [1] 2732
396 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [MFC와 residence time] [1] 2692
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