공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[88]
| 2553 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 13502 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 49688 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 61622 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[2]
| 80215 |
220 |
pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련..
[1] | 22257 |
219 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
| 25319 |
218 |
플라즈마 진단법에 대하여
[1] | 19943 |
217 |
안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다.
[1] | 20049 |
216 |
UBM 스퍼터링 장비로...
[1] | 20638 |
215 |
Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 24263 |
214 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 23840 |
213 |
플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[2] | 26465 |
212 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 40056 |
211 |
광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요?
| 22860 |
210 |
석영이 사용되는 이유?
[1] | 19489 |
209 |
surface wave plasma 에 대해서
[1] | 18155 |
208 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
| 22930 |
207 |
전자파 누설에 관해서 질문드립니다.
[1] | 20858 |
206 |
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요
[2] | 23133 |
205 |
질문이 몇가지 있읍니다.
[1] | 19018 |
204 |
저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서...
[1] | 21089 |
203 |
H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
[1] | 24030 |
202 |
dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 24973 |
201 |
몇가지 질문있습니다
| 16489 |