Others DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단
2017.02.20 19:49
안녕하세요
연세대학교 대학원 석사과정 조재규 입니다.
현재 DC Magnetron Sputtering시 Target Erosion Reduction에 관해서 연구하고있습니다.
Plasma 진단과 관련하여 어려움을 겪고 있어 질문 드립니다.
DC Magnetron Sputtering 사용시 플라즈마 분포가 비균일하게 형성되기 때문에 Target Erosion이 발생합니다
따라서 이를 분석하기위해 Plasma 형상을 정량화 하려는 방법을 구상하고 있고
가장 먼저 떠오른 방법은 Langmuir Probe였습니다.
하지만 Langmuir Probe는 워낙 국소부분 진단 방법이고 측정 위치를 다양하게 하기위해선 Sputter 장비에 설치 가능여부가 의문입니다.
이러한경우 어떠한 Plasma 진단법이 적합할지 여쭈어봅니다.
그리고 Langmuir Probe를 그대로 사용할 시 Tip이 있을까요?
정전탐침, LP 등을 사용할 때 공간 분포는 위치를 변화시켜 가면서 측정을 할 수 있습니다. 이를 통해서 3차원 공간의 분포를 측정할 수 있겠고, 밀도 분포의 경우 satureation ion 혹은 electron current를 scan 하도록 구성하면 보다 수월하게 공간 분포 맵을 얻을 수가 있겠지요. 하지만 먼저 한 점의 자료를 해석하는 연습이 필요합니다. Magnetron plasma 의 경우 이온 전류에 집중하면 좋을 것이고, 다만 자기장이 분포를 하고 있으니 이 기준으로 탐침의 위치와 팁의 면 방향 등을 설정하는 점은 잊지 않아야 합니다. 또한 전체 플라즈마 분포를 예상해 보려면 광학적, 사진으로 부터 밝기 분포를 그려서 확인해 보는 방법도 추천합니다. 근사적인 플라즈마 분포를 볼 수 있습니다.
헌데 왜 magnetron plasma는 균일할 수가 없을까요? 먼저 이해하고 진단을 하는 것이 좋습니다.