번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76402
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19992
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57066
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68541
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91339
336 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4452
335 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4689
334 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4993
333 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5069
332 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5095
331 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5381
330 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5413
329 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5599
328 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5660
327 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5763
326 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5817
325 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 5871
324 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5899
323 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6024
322 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6028
321 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6158
320 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6189
319 자료 요청드립니다. [1] 6198
318 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6220
317 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6326

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