안녕하세요

은퇴후 자작으로 해봅니다.

이쪽은 생소한 분야라서 공부하면서 실험합니다. (본래 저는 전자공학을 전공했습니다.)

백금족 전극으로 수도물에

1)  DC 12V를 인가하여 5분간 전기분해 개념으로 작동했더니, >> ORP = -200~-300mV, Ph=7.5~7.7, 수소 300~400PPB 정도가 생성,

2) 같은 조건으로 30초 간격으로 전극의 극성을 바꾸었더니 측정 결과는 조금 높게 나옵니다.

3) 그리고 이번에는 DC 12, 10KHz 구형파를 작동식켜보니 좀더 나은 데이터가 나오고

4)  24KHz를 걸어보니 좀더 나은 데이터가 나오는데

질문은요...

(1) 위 실험 중에서 전기분해와 플라즈마 발생을 나눌 수 있나요.

    예를들면 1), 2)는 전기분해, 3),4)는 플라즈마...

(2) 위 1과 2가 다른 데이터가 나오는 이유가 무엇일까요.

(3) 3,4 에서 주파수를 계속높이면 더 좋은 결과를 얻을 수 있을까요.

(4) 그렇다면 주파수는 얼마까지 높일 수 있나요.

설명 주시면 감사하겠습니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76813
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20241
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57186
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68736
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92571
357 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3558
356 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3636
355 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3656
354 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3705
353 Descum 관련 문의 사항. [1] 3728
352 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3734
351 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3786
350 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 3810
349 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3828
348 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3930
347 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3942
346 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3968
345 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3972
344 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3978
343 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4030
342 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4159
341 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4195
340 플라즈마 색 관찰 [1] 4278
339 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4285
338 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4332

Boards


XE Login