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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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plasma etching을 관련 문의드립니다. [반도체 공동 연구소]
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394 |
analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리]
[1] | 2657 |
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393 |
식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [소자 식각 데미지]
[1] | 2635 |
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392 |
부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [Self bias의 이해]
[1] | 2632 |
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플라즈마 관련 기초지식 [DC glow discharge]
[1] | 2629 |
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Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [플라즈마 생성 분포와 sheath 전기장]
[1] | 2563 |
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플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는?
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chamber impedance [장비 임피던스 데이터]
[1] | 2499 |
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안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마]
[1] | 2498 |
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Ta deposition시 DC Source Sputtreing
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standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [Standing wave 운전 조건, 안테나 설계]
[1] | 2481 |
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플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문있습니다. [이온과 전자의 속도 차이와 Gate valve의 위치]
[1] | 2480 |
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[질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자]
[2] | 2462 |
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쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath]
[1] | 2459 |
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양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [이차 전자의 방출 특성]
[1] | 2457 |
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380 |
플라즈마 에칭과 표면처리의 차이점 질문드립니다. [Cleaning, sputter etching, RIE]
[1] | 2454 |
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ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [Ion energy와 heat, sheath energy]
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RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문
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RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage]
[3] | 2434 |
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잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [군산대학교 주정훈 교수님]
[1] | 2427 |
