안녕하세요. 교수님.

일전에 ICP에서 발생되는 self bias로 쿼츠가 식각될 수 있는지에 대해 문의드렸습니다.

그 때의 답변 감사드립니다.

 

이번에 여쭙고 싶은것은 그때와 이어지는 내용인데요.

저희의 실험(다층박막) 중 SiO2가 아닌 다른 물질을 증착 중 식각된 쿼츠에서 SiO2가 기판으로 날아와 일부 증착되는 것으로 예상이 됩니다.

그래서 여러가지 특성에 일부 영향을 주는데

쿼츠 쪽에서 발생되는 시각을 줄이기 위해 self bias를 줄일 방안을 생각해보았습니다.

그 중에 ICP영역(코일 전면부)에 영향을 주지 않는 선에서 anode를 장착하여 self bias를 만드는 전자들을 빼내어주는 방안을 생각해보았는데

이 경우 플라즈마 형성에는 문제가 없는지와 이 방법으로 정말 self bias를 줄여 식각현상을 줄이거나 없앨 수 있는지가 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76729
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20192
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68701
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92279
349 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1963
348 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1955
347 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1954
346 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1950
345 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1944
344 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1934
343 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1914
342 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1911
341 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1908
340 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1900
339 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1890
338 가입인사드립니다. [1] 1880
337 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1870
336 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1865
335 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1861
334 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1850
333 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1849
332 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1848
331 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1843
330 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1810

Boards


XE Login