LCD 장비 업체에 근무하는 김기권이라고 합니다.
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) Source/Drain 공정에서만 발생하고 있습니다 , 발생 시점 은 Plasma On 후 15~20sec 후 (Ti Etching 완료되고, Al 막이 전면적으로 나타난 시점)
증상은  HVDC current '0" , DC Bias 상승 (최대치인 100V 까지), 동시에 Bias Reflect (전반사 - 미세한 Refect가 아니라, 전면적인 반전)

2. 조치 사항    
    1) HVDC Swap - 변화 없음
    2) ESC Filter Swap - "    
    3) RF Matcher Swap - "
    4) ESC 교체 - 일시적 개선되나, 시간을 두고 다시 재발

장비에 문제 인지 ESC 에 문제인지 파악이 안되고 있습니다.

많은 도움 부탁드립니다.



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20181
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68697
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92276
329 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5900
328 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 962
327 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6247
326 핵융합 질문 [1] 567
325 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 636
324 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1962
323 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7649
322 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1273
321 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1408
320 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5267
319 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 5995
318 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8135
317 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6069
316 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2493
315 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3907
314 Ar plasma power/time [1] 1437
313 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4009
312 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] 17445
311 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1388
310 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7226

Boards


XE Login