.반도체회사에서 pecvd 담당하고 있는 초보인데요. 궁금한게 몇개 있어 물어보겠습니다.

1.  pecvd 증착 후 wafer edge에 많은 defect을 해결하는 방법 (center는 깨끗함, edge에만 defect이 수없이 많음)

2. pecvd deposition 중  reflected power가  팅기는 현상으로 인해 두께가 낮아지거나 높아지는 현상이 있나요? 있다면 해결방법 알려주세요.

3. 한번 공정할때 wafer가 5장이 들어가는데 최대한 두께가 균일하게 증착할 방법이 있을까요? 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76402
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19990
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57066
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68537
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91319
316 터보펌프 에러관련 [1] 1722
315 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1696
314 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1675
313 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1669
312 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1669
311 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1667
310 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1653
309 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1646
308 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1644
307 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1627
» Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1610
305 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1584
304 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1577
303 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1574
302 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1560
301 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1560
300 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1552
299 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1533
298 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1526
297 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1509

Boards


XE Login