플라즈마는 전기장에서 가속운동을 하고 자기장에서 회전운동을 하는데 이런 현상이 발생하는 이유가 자기의 시간적 변화에 의해 전기적 성질이 발현되는 현상을 뜻하는 전자기유도현상과 관련있나요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76402
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19990
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57066
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68537
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91315
316 터보펌프 에러관련 [1] 1722
315 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1696
314 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1675
313 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1669
312 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1669
311 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1667
310 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1653
309 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1646
» 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1644
307 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1627
306 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1610
305 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1584
304 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1577
303 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1574
302 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1560
301 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1560
300 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1552
299 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1533
298 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1526
297 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1509

Boards


XE Login