번호 제목 조회 수
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공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24729
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61552
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73531
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105984
374 Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련 [Sheath 전위 형성] [3] 3862
373 CVD 공정에서의 self bias [이차 전자 생성, 입사 이온 에너지 분포] [1] 3961
372 ESC Cooling gas 관련 [ESC 온도 제어] [1] 3977
371 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [Arc와 cleaning] [1] 4071
370 RF matcher와 particle 관계 [DC glow 방전, 플라즈마 임피던스] [2] 4094
369 Bias 관련 질문 드립니다. [Ion plasma frequency] [1] 4104
368 the lines of magnetic induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [Ideal MHD plasma의 magnetic flux conservation] [1] file 4112
367 DC스퍼터링과 RF 스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [플라즈마 생성과 Sputtering] [2] 4214
366 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성] [1] 4222
365 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [Etch와 IEDF] [2] 4230
364 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전] [3] 4241
363 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [Self bias와 DC offset] [1] 4242
362 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [Standing wave 및 플라즈마 밀도 분포] [1] 4277
361 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [하전에 의한 전기장 형성 및 방전 시간] [1] 4302
360 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다 [고주파 플라즈마 반응 특성] [2] 4322
359 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [Gas별 고유한 플라즈마 색] [1] 4350
358 Plasma 식각 test 관련 문의 [플라즈마 데이터 처리] [1] 4386
357 Plasma 표면 개질에 대해 질문드립니다. [O2 플라즈마와 Ar 플라즈마] [1] 4388
356 Descum 관련 문의 사항. [라디컬 및 이온 생성과 플라즈마 생성 메커니즘] [1] 4394
355 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [플라즈마 주파수와 Vpp, sheath] [1] 4416
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