Matcher matching box에 관한 질문
2010.05.05 13:54
안녕하세요...
저는 반도체 회사에서 근무하는 사람입니다..
matching box 관련하여 질문이 있어서 글을 올립니다..
현업에서 matching box관련 monitoring하는 parameter중 Load position과 Tune position이란 게 있습니다..
여기 사이트에서 load capacitor와 tune capacitor 얘기가 언급되어 아마 capacitor 관련 용어인 것으로 짐작
되어 지는데 정확한 의미와 역할을 알고 싶습니다..
제 나름대로 확인한 바로는 impedance matching은 L nework와 Pi network가 있는데 위에서 언급한 Load
capacitor와 Tune capacitor는 Pi network에서 사용되는 2개의 capacitor 이름인가요?
답변 부탁 드립니다..
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] | 76748 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20217 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57169 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68707 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92305 |
| 330 | 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] | 1799 |
| 329 | wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] | 1796 |
| 328 | 터보펌프 에러관련 [1] | 1762 |
| 327 | Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] | 1752 |
| 326 | ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] | 1742 |
| 325 | CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] | 1732 |
| 324 | 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] | 1703 |
| 323 | CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] | 1690 |
| 322 | 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] | 1686 |
| 321 | RF 전압과 압력의 영향? [1] | 1679 |
| 320 | 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] | 1671 |
| 319 | Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] | 1661 |
| 318 | Pecvd 장비 공정 질문 [1] | 1661 |
| 317 | EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] | 1650 |
| 316 | standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1610 |
| 315 | CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] | 1609 |
| 314 | ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] | 1603 |
| 313 |
전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다.
[1]  | 1600 |
| 312 | O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] | 1562 |
| 311 | 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] | 1533 |
- 논문: 이상원박사, " 전기적 특성을 고려한 ICP Source 설계",한국진공학회지 제18권 제3호 2009.5, pp. 176~185(10pages) 를 참고하세요.