Others Full Face Erosion 관련 질문

2008.12.16 08:24

이태성 조회 수:19638 추천:193

안녕하세요.
Full face erosion 관련 자료를 찾던 중 이곳까지 오게되었습니다. 인터넷검색으로는 자료를 찾을수가 없어서
이렇게 글을 올립니다.

high deposition rate가능, long time process가능, 간단한 process control
등의 장점은 대충 알고 있으나, 어떠한 구조인지, 어떠한 원리로 위의 장점들이 가능한지,
단점은 무엇인지, 기존 sputter와 차이점 등등 FFE에 대한 자세한 내용을 알고싶습니다.

답변해 주시면 정말 많은 도움이 될 것같습니다.
자료를 올려주셔도 괜찮습니다 ^^;;;
사회초년생으로서 배울것이 너무 많은것 같네요.
염치없지만 부탁드립니다 ㅠ.ㅠ      

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102959
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61444
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73484
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105857
373 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [Breakdown voltage 및 이온화 에너지] [1] 2288
372 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [ER과 self bias] [1] 2277
371 RF 전압과 압력의 영향? [DC glow 방전, Paschen's Law] [1] 2275
370 RF FREUNCY와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [CCP와 ionization] [1] 2245
369 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [N2 Ionizer 이온 및 중성 입자 해석] [1] 2226
368 PECVD 증착에서 etching 관계 [PECVD 증착] [1] 2201
367 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [Excitation transfer 반응과 방사천이율] [1] 2201
366 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [Resonator의 matching] [1] 2157
365 ICP와 CCP에서의 Breakdown voltage [Breakdown과 E-H transition] [1] 2141
364 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [Wafer bias와 chuck cap] [1] 2133
363 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동] [2] 2133
362 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry] [3] 2101
361 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy] [1] 2100
360 Pecvd장비 공정 질문 [Dusty plasma와 벽면 particle 제어] [1] 2092
359 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [Matcher와 Plasma Impedence] [1] 2082
358 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산] [1] 2072
357 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 2070
356 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [고전압 방전 및 DBD] [2] 2070
355 plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수] [1] 2069
354 터보펌프 에러관련 [터보 펌프 구동 압력] [1] 2067
쓰기
태그

Boards

XE Login