안녕하세요~

Plasma로 Wafer에 위에 감광액의 Ashing하는 설비를 담당하는 구태영이라고 합니다.

현 장비는 M/W,RF와 O2,N2를 사용하여  Plasma를 생성하고 있습니다.

진공챔버 내에 Plasma 발생시 Wafer 주위에 분홍빛이 나며, 그 위에는 백색빛이 나면서 Plasma가 형성됩니다.

분홍빛은 Bias에 의한 Plasma 밀도랑 관련있다고 알고 있습니다.

여기서 제가 궁금한점 문의드리겠습니다.

1) 분홍빛이 띄는 곳이 Plama의 밀집 되어 있는 부분이 맞는가요?

2) 분홍빛과 백색빛의 차이를 알고 싶습니다.

3) Plasma에 의하여 Wafer에 Damage를 발생할 수 있는 부분을 알고 싶습니다.
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76431
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19995
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57067
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68543
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91342
317 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6024
316 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2438
315 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3812
314 Ar plasma power/time [1] 1414
313 RPSC 관련 질문입니다. [2] 3917
312 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] 17238
311 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1372
310 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7091
309 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1906
308 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 11184
307 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4057
306 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 837
305 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1896
304 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3019
303 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4200
302 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1193
301 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1813
300 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1669
299 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3721
» M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3128

Boards


XE Login