Others O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다.

2017.02.22 22:41

opqr908 조회 수:1211

안녕하세요 서울대학교 박사과정 학생입니다. 

실험을 설계하는중 플라즈마 공정에 관해서 모르는 점이 많아서 여쭤봅니다. 

O2 Plasma etch공정에서 저희가 sample이 받는 Total 플라즈마 에너지 혹은 etch rate을 일정하게 
유지하면서 Power를 바꿔보고싶습니다. 가스 flow rate 와 가스 종류, 시간은 바꾸지 않고 power와 pressure만 컨트롤 해서 유지가 가능할까요? 이렇게 할 경우에 Power가 바뀔시 Pressure가 어떤식으로 바껴야 Plasma energy를 가능한 일정하게 유지할 수있는지를 알수있는 식이나 상관관계가 있나요? 
예를 들어서,  power: 50W, 에서 100W로 두배 올릴때 압력은 어떤 변화를 가지게 되나요?
정확한 수치를 계산하는 목적이 아닌 대략적으로라도 실험을 일관성 있게 진행하려는 목적으로 질문을 드립니다. 
답변 부탁드리겠습니다. 


감사합니다. 
이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5818
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17286
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53122
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64498
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85112
238 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1270
237 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1269
236 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1264
235 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1258
234 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 1245
233 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1245
232 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1242
231 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1241
230 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1240
229 Ar plasma power/time [1] 1239
228 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1237
227 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1234
226 MATCHER 발열 문제 [3] 1223
225 charge effect에 대해 [2] 1222
224 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1219
» O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1211
222 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1206
221 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 1201
220 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1191
219 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1176
쓰기
태그

Boards

XE Login