안녕하세요

은퇴후 자작으로 해봅니다.

이쪽은 생소한 분야라서 공부하면서 실험합니다. (본래 저는 전자공학을 전공했습니다.)

백금족 전극으로 수도물에

1)  DC 12V를 인가하여 5분간 전기분해 개념으로 작동했더니, >> ORP = -200~-300mV, Ph=7.5~7.7, 수소 300~400PPB 정도가 생성,

2) 같은 조건으로 30초 간격으로 전극의 극성을 바꾸었더니 측정 결과는 조금 높게 나옵니다.

3) 그리고 이번에는 DC 12, 10KHz 구형파를 작동식켜보니 좀더 나은 데이터가 나오고

4)  24KHz를 걸어보니 좀더 나은 데이터가 나오는데

질문은요...

(1) 위 실험 중에서 전기분해와 플라즈마 발생을 나눌 수 있나요.

    예를들면 1), 2)는 전기분해, 3),4)는 플라즈마...

(2) 위 1과 2가 다른 데이터가 나오는 이유가 무엇일까요.

(3) 3,4 에서 주파수를 계속높이면 더 좋은 결과를 얻을 수 있을까요.

(4) 그렇다면 주파수는 얼마까지 높일 수 있나요.

설명 주시면 감사하겠습니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76728
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20190
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
329 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1795
328 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1793
327 터보펌프 에러관련 [1] 1756
326 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1751
325 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1737
324 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1730
323 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1703
322 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1688
321 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1686
320 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1676
319 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1670
318 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1661
317 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1660
316 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1644
315 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1607
314 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1605
313 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1600
312 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1598
311 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1561
310 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1533

Boards


XE Login