ICP ICP reflecot power 관련 질문드립니다.
2019.11.13 16:44
안녕하세요 교수님
반도체 공정 장비엔지니어로 근무중인 엔지니어입니다.
게시판과 질문글 내용을 찾아보다 궁금한점을 해소할수 없어 게시판에 질문글을 올리게 되었습니다.
sputter장비 ICP power 인가와 관련된 특이점이 지속적으로 발생되어 확인중에 있습니다.
장비 구조
-. RF etch chamber
-. ICP power 2.1Mhz 375W (none matching) _ Chamber 상단에 ICP power
-. RF power 13.5hMhz 150W (RF matching) _ Process stage bias power
process sequence와 특이점은 다음과 같습니다.
1. Ar gas boost 200sccm
2. Ar gas input 80sccm
3. ICP power 375W & RF power 150W 동시 인가 : Striking plasma 과정에서 RF (Bias) matching 동작
4. Striking Plasma 정상 이후 process 진행됨
문제점 : 3번 항목에서 ICP power 인가시 간헐적인 reflect power 발생으로 Power on 인식 불가
간헐적이라 함은, 장비 가동후 40분~1시간 까지는 상기 reflect power 발생없이 진행되나
40분~1시간 이후부터는 50%확률로 reflect power가 발생되는 부분입니다.
제품 진행을 멈추고 1시간 정도 대기했다가 다시 장비 가동시 문제 현상이 반복되고 있습니다.
추측하기로는
1번. ICP power와 RF power가 동시 인가되나, ICP power의 matcher 부재로 인한 reflect power 제어 불가
: 원래 장비 concept은 RF power 인가 이후 ICP power인가되어야 하나, 장비 개조(with 장비 maker) 이후
동시 인가되는 방식으로 변경됨. 개조 이후 1년 경과시점부터 해당 문제 발생
2번. ICP chamber 상단의 냉각 능력 저하
: 안테나 코일과 냉각 라인이 설치되어 있음. 정확한 냉각 라인내부 온도 측정 및 flow meter 확인이 어려움
이와 같은 상황에서 어떠한 방식으로 점검 point를 맞춰나갈지
조언을 부탁드리고자 글을 올리게 되었습니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [270] | 76745 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20214 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57169 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68706 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92303 |
329 | 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] | 1799 |
328 | wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] | 1795 |
327 | 터보펌프 에러관련 [1] | 1760 |
326 | Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] | 1752 |
325 | ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] | 1741 |
324 | CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] | 1731 |
323 | 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] | 1703 |
322 | CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] | 1689 |
321 | 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] | 1686 |
320 | RF 전압과 압력의 영향? [1] | 1678 |
319 | 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] | 1671 |
318 | Pecvd 장비 공정 질문 [1] | 1661 |
317 | Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] | 1661 |
316 | EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] | 1649 |
315 | CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] | 1609 |
314 | standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1609 |
» | ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] | 1603 |
312 | 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] | 1599 |
311 | O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] | 1562 |
310 | 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] | 1533 |