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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72238
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372 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [Wave guide 및 matcher position 변화] [1] 2200
371 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [ER과 self bias] [1] 2197
370 RF FREUNCY와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [CCP와 ionization] [1] 2181
369 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [N2 Ionizer 이온 및 중성 입자 해석] [1] 2160
368 RF 전압과 압력의 영향? [DC glow 방전, Paschen's Law] [1] 2158
367 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [Excitation transfer 반응과 방사천이율] [1] 2145
366 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [Resonator의 matching] [1] 2116
365 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동] [2] 2093
364 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [Wafer bias와 chuck cap] [1] 2078
363 ICP와 CCP에서의 Breakdown voltage [Breakdown과 E-H transition] [1] 2045
362 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 2034
361 PECVD 증착에서 etching 관계 [PECVD 증착] [1] 2033
360 가입인사드립니다. [1] 2031
359 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry] [3] 2024
358 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy] [1] 2022
357 Pecvd장비 공정 질문 [Dusty plasma와 벽면 particle 제어] [1] 2009
356 터보펌프 에러관련 [터보 펌프 구동 압력] [1] 1995
355 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [Matcher와 Plasma Impedence] [1] 1989
354 ICP reflecot power [Insulator와 rf leak] [1] 1980
353 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [플라즈마 임피던스, 운전압력조절 방전 조건] [1] 1978

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