Plasma in general 플라즈마 기술관련 문의 드립니다
2021.01.08 17:45
안녕하세요
현재 기업에 다니고 있는 회사원입니다
표면처리기술 과련 하여 공부하던 중 플라즈마 기술을 보고 문의드립니다
1. water나 유기용매에 분산되어 있는 나노 입자에 플라즈마 처리 가능한가?
2. 30nm 이하의 분말형태의 시료에도 플라즈마 처리가 가능하가?
목표는 30nm 이하의 입자에 표면처리를 통해 특정 물성을 갖게 하는 것인데,
입자 전체에 플라즈마 처리를 하고 싶은데 분말일때 플라즈마 처리가 고르게 이루어지지 않을 것 같아
위와 같은 질문을 드립니다
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76866 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20272 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57198 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68750 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92692 |
| 337 | N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] | 1820 |
| 336 | wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] | 1808 |
| 335 | Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] | 1771 |
| 334 | 터보펌프 에러관련 [1] | 1769 |
| 333 | ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] | 1760 |
| 332 | CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] | 1750 |
| 331 | 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] | 1707 |
| 330 | CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] | 1705 |
| 329 | 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] | 1701 |
| 328 | RF 전압과 압력의 영향? [1] | 1691 |
| 327 | 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] | 1676 |
| 326 | Pecvd 장비 공정 질문 [1] | 1673 |
| 325 | EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] | 1670 |
| 324 | Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] | 1670 |
| 323 | standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1639 |
| 322 | ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] | 1625 |
| 321 | CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] | 1622 |
| 320 |
전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다.
[1]  | 1607 |
| 319 | O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] | 1568 |
| 318 | plasma 형성 관계 [1] | 1548 |
나노 분말 생성 및 제어 연구는 성균관대학교 김태성교수님께 문의드려 보시기 바랍니다. 도움을 받으실 수 있을 것 같습니다.