ICP Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여

2018.12.21 07:56

정용진 조회 수:1661

안녕하세요, dusty 플라즈마를 활용해서 나노소재를 만드는 연구를 하는 한 학생입니다.


플라즈마 electron density 를 증가하고자 CCP 에서 ICP 로 바꿔서 실험을 진행하고 있는데요,


Ar gas 만 흘럿을때는 매우 아름다운 ICP 효과를 얻을 수 있는데,

O2 gas 를 넣는 순간 ICP 효과가 사라집니다.


튜브 사이즈는 직경 2인치이고, power 는 200 W 정도 인가하였는데 

매칭박스의 매칭이 잘 되지는 않습니다. 


주로 CCP 만 사용하다가 ICP 를 사용하게 되어 매칭박스에 관해 지식이 짧은데,

혹시 ICP 를 사용할때는 이 모드에 맞게 매칭박스를 바꾸어야 하는지요?


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76754
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20217
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57170
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68707
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92321
330 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1804
329 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1796
328 터보펌프 에러관련 [1] 1762
327 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1752
326 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1742
325 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1733
324 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1703
323 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1690
322 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1686
321 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1679
320 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1671
» Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1661
318 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1661
317 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1651
316 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1613
315 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1610
314 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1604
313 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1600
312 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1562
311 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1533

Boards


XE Login