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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
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ICP reflecot power [Insulator와 rf leak]
[1] | 2059 |
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압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [플라즈마 임피던스, 운전압력조절 방전 조건]
[1] | 2056 |
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가입인사드립니다.
[1] | 2054 |
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텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [표면 화학 반응]
[1] | 2032 |
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348 |
ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath]
[1] | 2030 |
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347 |
N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma]
[1] | 2024 |
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346 |
안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield]
[1] | 1984 |
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Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance]
[1] | 1974 |
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344 |
다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [Radio-Frequency Plasma]
[1] | 1960 |
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343 |
Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance]
[1] | 1956 |
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342 |
IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [접촉 저항]
[2] | 1952 |
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플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료]
[1] | 1936 |
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연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술]
[1] | 1933 |
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CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance]
[3] | 1918 |
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338 |
ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도]
[1] | 1900 |
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337 |
PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable]
[1] | 1899 |
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336 |
전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending]
[1]  | 1892 |
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335 |
Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적]
[1] | 1875 |
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334 |
Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source]
[1] | 1872 |
