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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ICP reflecot power [Insulator와 rf leak]
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텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [표면 화학 반응]
[1] | 2123 |
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plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수]
[1] | 2115 |
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ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath]
[1] | 2111 |
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N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma]
[1] | 2108 |
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터보펌프 에러관련 [터보 펌프 구동 압력]
[1] | 2098 |
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공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
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가입인사드립니다.
[1] | 2090 |
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Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance]
[1] | 2068 |
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PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable]
[1] | 2051 |
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안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield]
[1] | 2046 |
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344 |
IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [접촉 저항]
[2] | 2034 |
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플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료]
[1] | 2026 |
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Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance]
[1] | 2005 |
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다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [Radio-Frequency Plasma]
[1] | 2002 |
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340 |
Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas]
[1] | 1988 |
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339 |
연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술]
[1] | 1982 |
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Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source]
[1] | 1974 |
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337 |
ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도]
[1] | 1971 |
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336 |
CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance]
[3] | 1970 |
