Others CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마...

2009.08.05 13:02

공학도 조회 수:20058 추천:219

안녕하세요 관리자님 및 플라즈마 고수님들..

다름이 아니오라, 제고 궁금한 몇가지가 있어서 문의를 드리게 되었습니다.



우선 첨부된 ppt문서와 더불어 문의 드리면,

1번 그림에서와 같이 사각형 챔버(내부는 절연을 위한 anodizing처리함)의 상부에 Eledtrode를 전면적으로 구성하고,

상기 Electrode의 센터부를 통해 RF가 인가된다면 플라즈마의 형상이 벽면의 쉬스영역을 제외하고

그림과 같이, 전반적으로 둥근 타원형 형상을 이루는지 궁금합니다.

만약 그렇다면 모서리부분에 데드존이 발생하는데, 이를 보완하는 방법중의 하나로 생각한 것이

모서리부위에 접지를 강화를 위해 접지바를 설치하는 것인데

이렇게 되면 플라즈마의 형상은 어떻게 되는지요?

제가 추측하기로는 모서리부에서의 전자이동이 활발하여 데드존이 조금이나마 보완될 듯 한데요..

그림 2참조...(모서리 부위로 플라즈마 분포가 넓게 펼쳐진 타원형상)



3번 그림에서와 같이 상부 하나의 Electrode에 두개의 RF Feeding을 하는 구조에서

플라즈마의 쏠림이 A방향이 강하다라고 가정하고, 이를 보완하고자, 우측의 RF Feeding에 고정임피던스를 추가하되,

고정임피던스의 nH값은 RF의 쏠림현상을 감안하여 계산하여 임피던스를 추가하면

플라즈마가 B방향으로 이동을 하는지 궁금합니다.



마지막으로, 4번 그림에서와 같이 상부 하나의 Electrode에 두개의 RF Feeding을 하는 구조에서

플라즈마의 쏠림이 A방향이 강하다라고 가정하고, 이를 보완하고자, 우측의 RF Feeding에 가변카페시터를 추가하되,

가변카페시터의 nF값은 RF의 쏠림현상을 감안하여 계산하여 카페시터를 추가하면

플라즈마가 B방향으로 이동을 하는지 궁금합니다.



요즘 RF, 플라즈마 관련하여 궁금한것이 많이 생겼습니다.

혹, 초보자가 쉽게 이해할 수 있는 관련 서적이나, 사이트가 있다면 더불어 소개해주시면 감사하겠습니다.
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