안녕하세요. 일반 회시에 다니는 회사원입니다.

다름이 아니고 마이크로웨이브파를 이용 플라즈마 발생장치에 관심이 있어 질문 드립니다.

만약 마그네트론 + 리액터 + 웨이브가이드  3개로 구성된 장치가 있는데 만약 여기에 사용되는 전력이 플라즈마를 발생시키기 위해서 마그네트론

과 리액터내 플라즈마를 발생시키기 위한 전력만 소모되는지요? 마그네트론은 1kw짜리 이고 리액터에 사용되는 플라즈마 발생장치는 저온 플라즈마(500~600도) 입니다.

개발업체에서는 플라즈마를 발생시키기 위해서 사용전력이 많이 들어간다고 하는데 얼마정도 인지 확인이 안되고 있습니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76816
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20245
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57186
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68737
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92575
315 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1535
314 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1528
313 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1523
312 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1510
311 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1509
310 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1501
309 charge effect에 대해 [2] 1467
308 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1466
307 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1465
306 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1465
305 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1464
304 알고싶습니다 [1] 1463
303 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1461
302 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1456
301 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1455
300 ICP lower power 와 RF bias [1] 1451
299 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1451
298 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1444
297 Ar plasma power/time [1] 1439
296 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1434

Boards


XE Login