Plasma in general O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다.
2020.05.28 12:04
안녕하세요. 저는 반도체 업종에서 근무하고 있습니다.
궁금한 점이 있어 질문드립니다.
Amorphous carbon 을 O2 분위기하에서 플라즈마 처리 할 경우 제거되는 지 궁금합니다.
또한 TIN 막을 H2 plasma 처리 할 경우 질소가 제거 된 TI가 되는 지 궁금합니다.
챔버 내 대기압 또는 진공상태가 위의 결과에 영향을 크게 미치는 지 궁금합니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76874 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20274 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57199 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68751 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92696 |
317 | 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] | 6410 |
316 | 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] | 6419 |
315 | O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] | 6432 |
» | O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] | 6451 |
313 | 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] | 6472 |
312 | 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] | 6492 |
311 | 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] | 6499 |
310 | 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] | 6540 |
309 | 안녕하세요, 질문드립니다. [2] | 6570 |
308 | 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] | 6676 |
307 | 저온 플라즈마에 관해서 [1] | 6685 |
306 | ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] | 7109 |
305 | RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] | 7263 |
304 | 정전척 isolation 문의 입니다. [1] | 7645 |
303 | CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] | 7660 |
302 | 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] | 7705 |
301 | MFP에 대해서.. [1] | 7830 |
300 | 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] | 8054 |
299 | 고온 플라즈마 관련 | 8090 |
298 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8126 |