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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[160]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Pecvd 장비 공정 질문
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225 |
O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다.
[1] | 1237 |
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224 |
CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도
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223 |
RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다.
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222 |
DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다.
[3] | 1217 |
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221 |
CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문
[1] | 1205 |
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220 |
EEDF, IEDF, Cross section관련 질문
[1] | 1195 |
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219 |
Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다.
[1] | 1184 |
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218 |
[질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문
[2] | 1181 |
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217 |
ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요??
[1] | 1168 |
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플라즈마 기초입니다
[1] | 1148 |
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215 |
PECVD 증착에서 etching 관계
[1] | 1122 |
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214 |
ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다.
[2] | 1113 |
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213 |
Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다.
[3] | 1097 |
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212 |
LF Power에의한 Ion Bombardment
[2] | 1095 |
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211 |
플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다.
[2] | 1084 |
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[CVD] 막 증착 관련 질문입니다.
[4] | 1083 |
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209 |
매칭시 Shunt와 Series 값
[1] | 1081 |
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208 |
Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다.
[1] | 1072 |
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207 |
CCP 챔버 접지 질문드립니다.
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