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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65695
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226 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1237
225 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1237
224 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1231
223 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1228
222 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1217
221 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1205
220 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1195
219 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1184
218 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1181
217 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 1168
216 플라즈마 기초입니다 [1] 1148
215 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1122
214 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1113
213 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1097
212 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 1095
211 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1084
210 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1083
209 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1081
208 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1072
207 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1071

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