Deposition 증착에 대하여...

2004.06.19 16:52

관리자 조회 수:18102 추천:239

저희도 증착 실험을 시도하고 있기도 합니다만 증착에 관한 경험은 많지 않습니다. 단지 도구로 사용하는 플라즈마의 특성에 관해서 공부를 조금 하고 있는 정도입니다.

예전 저희 경험으로는 Cu의 경우 sputtering에 의해서는 매우 증착이 잘 되었습니다. 하지만 지금 같은 MO에서도 잘 될 것 같은데, 산소가 너무 많지 않은가 하는 생각되 있긴 합니다. 개인적인 생각으로 현재 장치에서는 처부해야할 부분이 있다면, 박막의 성장 조건을 마련하기 위해서 (일단 시편이 얇은 경우면 DC도 가능하겠지만) self-bias를 인가할 수 있는 substrate를 제작하셔야 할 것 같습니다. 아울러 온도 조절도 가능하면 좋을 것입니다. 박막 제조를 n이해서는 시편의 온도, 시편 위에서의 전위 (이 경우 self bias)등의 조건을 매우 중요합니다. 일단 위의 두가지 조건을 변화할 수 있으면 변화해 보기 바랍니다. 이 점은 다른 박막 실험을 위해서도 필요하니 신경쓰시기 바랍니다. 또한 박막의 제만 의문점에 대해서는 저희 학과의 안 일신 교수님 (전화 031-400-5478/ 혹은 ilsin@hepth.hanyang.ac.kr)로 문의해 보시기 바랍니다. 박막에 대한 많은 경험을 갖고 계신 분입니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76794
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20230
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57178
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68723
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92499
311 plasma 형성 관계 [1] 1531
310 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1523
309 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1521
308 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1509
307 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1505
306 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1499
305 charge effect에 대해 [2] 1466
304 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1465
303 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1464
302 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1463
301 알고싶습니다 [1] 1462
300 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1462
299 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1461
298 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1456
297 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1452
296 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1450
295 ICP lower power 와 RF bias [1] 1445
294 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1443
293 Ar plasma power/time [1] 1438
292 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1432

Boards


XE Login