안녕하세요.

반도체 회사 설비 엔지니어로 관련 200mm conductor etcher 에서 ceramic esc 를 사용하고 있습니다.

해당 esc 를 운용하면서 공정 진행중 b-he flow error 증가하면서 error 가 발생하고 빈도가 잦아지면 교체를 하게 되는데

해당 esc 분리하여 외부 검증 요청시 표면에 polymer가 증착되어 chucking 을 떨어뜨린다고 합니다.

 

국내 major 회사에서도 동일한 문제가 있어서 ISD란 공정을 진행하여 polymer 제거를 하여 he error 를 개선한 이력이 있다고 하여

ISD 공정이 무엇인지..해당 공정 parameter 가 어떤것이지...가능하다면 recipe 를 어떻게 구성해야 하는지에 대한

referance 를 문의 드립니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76871
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
297 MATCHER 발열 문제 [3] 1437
296 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1436
» ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1435
294 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1424
293 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1424
292 플라즈마 관련 교육 [1] 1414
291 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1411
290 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1406
289 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 1401
288 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1398
287 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1393
286 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1387
285 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1379
284 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1374
283 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1370
282 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1364
281 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1362
280 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1355
279 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1355
278 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1345

Boards


XE Login