|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[335]
| 103804 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 24754 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 61628 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 73575 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 106083 |
|
335 |
Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적]
[1] | 1887 |
|
334 |
반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment]
[1] | 1876 |
|
333 |
charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple]
[2] | 1861 |
|
332 |
Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity]
[1] | 1855 |
|
331 |
데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성]
[1] | 1854 |
|
330 |
O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning]
[1] | 1841 |
|
329 |
알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터]
[1] | 1837 |
|
328 |
RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection]
[1] | 1832 |
|
327 |
전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation]
[1] | 1829 |
|
326 |
SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리]
[1] | 1826 |
|
325 |
Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과]
[1] | 1804 |
|
324 |
Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance]
[1] | 1795 |
|
323 |
부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극]
[1] | 1795 |
|
322 |
RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [Plasma cleaning]
[1]  | 1793 |
|
321 |
ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의
| 1789 |
|
320 |
CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [챔버 벽면 성질 및 가스 손실]
[1] | 1775 |
|
319 |
Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [Matcher의 알고리즘]
[1] | 1768 |
|
318 |
MATCHER 발열 문제 [Mathcer와 plasma impedance]
[3] | 1761 |
|
317 |
Impedence 위상관련 문의 [Circuit model, matching]
[1] | 1750 |
|
316 |
rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning]
[1] | 1746 |
