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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[333]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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334 |
Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas]
[1] | 1875 |
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333 |
반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment]
[1] | 1869 |
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332 |
charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple]
[2] | 1856 |
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331 |
Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity]
[1] | 1853 |
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330 |
데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성]
[1] | 1848 |
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329 |
알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터]
[1] | 1836 |
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328 |
O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning]
[1] | 1834 |
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327 |
RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection]
[1] | 1824 |
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326 |
SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리]
[1] | 1817 |
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325 |
전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation]
[1] | 1809 |
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324 |
부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극]
[1] | 1794 |
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Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과]
[1] | 1792 |
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322 |
Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance]
[1] | 1787 |
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ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의
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CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [챔버 벽면 성질 및 가스 손실]
[1] | 1769 |
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RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [Plasma cleaning]
[1]  | 1767 |
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318 |
Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [Matcher의 알고리즘]
[1] | 1764 |
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317 |
MATCHER 발열 문제 [Mathcer와 plasma impedance]
[3] | 1757 |
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Impedence 위상관련 문의 [Circuit model, matching]
[1] | 1746 |
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315 |
rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning]
[1] | 1742 |
