안녕하세요?

플라즈마 응용연구실 인원 여러분

저는 성대 박사과정으로 있는 박형식이라고 합니다.

다름이 아니오라 제가 새벽에 실험 중에 갑작스런 현상이 발생한 것에 대해 궁금한 것이 이렇게 질문을 하게 되었습니다.

제가 스퍼터에 대해 실험 중에 DC 파워를 인가하는 중에 DC 파워 디스플레이에 high impedance란 메시지가 떴습니다.

혹시 몰라 일단 DC 파워는 off 시킨 상태이구요.

원인이 정확히 무엇인지 알고 싶습니다.

기타 실험 조건들에 대해서는 아래 적어 놓겠습니다. 확인하시고 답변 주시면 감사하겠습니다.
--> 압력 : 0.5mtorr (Ar 10 sccm), 파워 500W, 온도  240oC, Tilt 각도 : 40 deg, 거리 가변 불가, 5rpm
타겟은 산화물 타겟이며 Al2O3 2wt.% doped ZnO 타겟입니다.
DC 파워는 피에스 플라즈마 SDC1024A 이고 파워 범위는 최대 2kW입니다.

혹 챔버 용량에 비해 가스량이 적으면 문제가 되는 것인지? 아니면 다른 문제인지..알고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76437
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19997
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57070
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68543
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91344
256 안녕하세요 교수님. [1] 8972
255 Lecture를 들을 수 없나요? [1] 8574
254 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] 13031
253 MFP에 대해서.. [1] 7810
252 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6565
251 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7686
250 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 10266
249 플라즈마 발생 억제 문의 [1] 8108
248 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24271
247 Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? 15873
246 Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] 15775
245 remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] 21876
244 cross section 질문 [1] 19646
243 [Sputter Forward,Reflect Power] [1] 29179
242 RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] 17637
241 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21164
240 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24716
239 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22666
238 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19821

Boards


XE Login