Others CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여

2004.06.25 12:45

관리자 조회 수:19345 추천:286

질문 ::

ICP 장비들을 공부하다 보니까.
일부 특허등에서 전류를 인가하는 coil 이외에 자석을 챔버 주위에 둘르는 것을 보곤 합니다.
이때 자석들이 무슨 기능을 하는지 알고 싶습니다.

ICP 의 경우 코일에 인가되는 전류에 의한 자기장이 챔버 내부에 형성되고 그에 따른 유도 전기장에 의하여 플라즈마를 발생시키게 되는데, 이때 자석이 놓으므로 해서 자기장에 어떤 효과를 주게 되는 지 알고 싶습니다.

ps. ICP의 경우 코일에 의한 자기장이 챔버중심까지 침투하는 건가요? 아니면 skin depth 이외에는 침투 하지 못하는 건지 알고 싶습니다.
만약 그렇다면 13.56MHz를 사용하는 일반적인 ICP 장비의 경우 skin depth가 어느정도 인지 알고 싶습니다.

답변 ::

ICP에 관한 내용은 이곳에 수차례 설명되어 있으니 꼭 참고하시기 바랍니다.
또한 자기장의 역할에 대해서도 이미 언급되어 있습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76800
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20236
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57182
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68732
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92542
271 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1331
270 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1328
269 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 1321
268 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1320
267 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1308
266 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1301
265 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1294
264 플라즈마 기초입니다 [1] 1286
263 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1274
262 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1274
261 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1248
260 플라즈마 챔버 [2] 1248
259 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1246
258 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1242
257 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1240
256 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1239
255 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1220
254 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1198
253 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1192
252 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1185

Boards


XE Login