안녕하십니까, 교수님
저는 국내 디스플레이 장비 업체에서 근무 중인 직장인 김준현이라고 합니다.
항상 좋은 답변 해주셔서 업무 진행에 있어 많은 도움을 받고 있습니다.

 

최근 arcing 관련 내용을 공부 중에 있는데요, 궁금한 점이 생겨 이렇게 문의드리게 되었습니다.

 

질문들은 하기와 같습니다. 

 

1. arcing 발생 방지에 있어, ground가 중요한 이유가 무엇인가요...?

 

2. 벽표면 혹은 전극 표면 등에 쌓인 부도체 물질, particle 등이 acring 발생에 어떤 영향을 주는지 그 메카니즘에 관해 알고 싶습니다.    

 

3. 특정 조건에서 기판 지지체 하부에 잔류 플라즈마 발생을 확인할 수 있었는데요, 기판지지체 하부에는 RF Power가 직접적으로 가해지지 않는데 왜 플라즈마가 유지/생성될 수 있는지 궁금합니다. 

 

이상입니다.

 

감사합니다.
 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102953
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61443
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73484
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105853
313 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning] [1] 1734
312 low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전] [1] 1729
311 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [Global model] [1] 1712
310 Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정] [2] 1709
309 플라즈마 챔버 [화학반응 및 내열조건] [2] 1688
308 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위] [3] 1687
307 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [전자전류의 해석] [1] 1677
306 잔류시간 Residence Time에 대해 [표면 유속 정보, 유체해석 코드] [1] 1672
305 강의를 들을 수 없는건가요? [플라즈마 진단 심포지움 및 PSES-net] [2] 1672
304 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1662
303 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요 [RF power와 power factor] [1] 1659
302 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [O2 plasma, ion sputtering] [1] 1646
301 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 1646
300 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [Plasma actuator와 DBD 방법] [3] 1641
299 전자 온도 구하기 [쉬스 전압, 스퍼터링 효과] [1] file 1635
298 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해] [1] 1633
297 RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭] [2] 1628
296 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [플라즈마 전류량] [1] 1626
295 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [Collisional sheath 정의] [1] 1625
294 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [플라즈마 생성 반응] [1] file 1622

Boards


XE Login