안녕하십니까, 교수님
저는 국내 디스플레이 장비 업체에서 근무 중인 직장인 김준현이라고 합니다.
항상 좋은 답변 해주셔서 업무 진행에 있어 많은 도움을 받고 있습니다.

 

최근 arcing 관련 내용을 공부 중에 있는데요, 궁금한 점이 생겨 이렇게 문의드리게 되었습니다.

 

질문들은 하기와 같습니다. 

 

1. arcing 발생 방지에 있어, ground가 중요한 이유가 무엇인가요...?

 

2. 벽표면 혹은 전극 표면 등에 쌓인 부도체 물질, particle 등이 acring 발생에 어떤 영향을 주는지 그 메카니즘에 관해 알고 싶습니다.    

 

3. 특정 조건에서 기판 지지체 하부에 잔류 플라즈마 발생을 확인할 수 있었는데요, 기판지지체 하부에는 RF Power가 직접적으로 가해지지 않는데 왜 플라즈마가 유지/생성될 수 있는지 궁금합니다. 

 

이상입니다.

 

감사합니다.
 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] 75432
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19167
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56480
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67563
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89370
228 플라즈마 관련 교육 [1] 1130
227 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1123
226 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1122
225 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1118
224 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1107
» Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1099
222 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1094
221 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1091
220 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 1085
219 자기 거울에 관하여 1081
218 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1080
217 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1078
216 Group Delay 문의드립니다. [1] 1065
215 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1056
214 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1054
213 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1054
212 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1039
211 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1037
210 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1035
209 플라즈마 챔버 [2] 1028

Boards


XE Login