안녕하십니까, 교수님
저는 국내 디스플레이 장비 업체에서 근무 중인 직장인 김준현이라고 합니다.
항상 좋은 답변 해주셔서 업무 진행에 있어 많은 도움을 받고 있습니다.

 

최근 arcing 관련 내용을 공부 중에 있는데요, 궁금한 점이 생겨 이렇게 문의드리게 되었습니다.

 

질문들은 하기와 같습니다. 

 

1. arcing 발생 방지에 있어, ground가 중요한 이유가 무엇인가요...?

 

2. 벽표면 혹은 전극 표면 등에 쌓인 부도체 물질, particle 등이 acring 발생에 어떤 영향을 주는지 그 메카니즘에 관해 알고 싶습니다.    

 

3. 특정 조건에서 기판 지지체 하부에 잔류 플라즈마 발생을 확인할 수 있었는데요, 기판지지체 하부에는 RF Power가 직접적으로 가해지지 않는데 왜 플라즈마가 유지/생성될 수 있는지 궁금합니다. 

 

이상입니다.

 

감사합니다.
 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [130] 5621
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16924
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51353
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64229
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84334
153 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 775
152 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 769
151 Plasma Generator 관련해서요. [1] 769
150 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] 760
149 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 758
148 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 754
» Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 752
146 plasma 형성 관계 [1] 748
145 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 748
144 알고싶습니다 [1] 742
143 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 740
142 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 731
141 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 724
140 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 720
139 플라즈마 챔버 [2] 719
138 문의 드립니다. [1] 716
137 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 709
136 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 704
135 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 702
134 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 700

Boards


XE Login